長管內壁濺射鍍膜系統

長管內壁濺射鍍膜系統

型號：DST-NEG10L300

本設備專為細長管道（直徑≥10mm，長度≤2m）內壁設計，通過高精度磁控濺射工藝在管內沉積涂層的一套設備，專為實驗室應用需要而開發的管內壁磁控濺射鍍膜試驗平臺。該系統兼容直流和射頻濺射源，濺射金屬（Ti-Zr-V）、非金屬（Al2O3）及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究。

   設備原理

磁控濺射鍍膜在充氬（Ar）的真空環境中，管內通入直流高壓，激發環形陰極靶材產生等離子體。Ar?離子轟擊靶材，濺射出的靶材原子/粒子沉積在旋轉/平移的管道內壁，形成納米晶目標涂層。  

NEG涂層工藝：

NEG激活機制涂層在空氣中穩定，需在真空環境中加熱至**350-450℃**（保持1-2小時），使表面氧化層擴散至體相，暴露出活性金屬表面。激活后涂層對活性氣體具有化學吸附能力（H?解離吸附，CO/O?化學鍵合）

關鍵技術參數

  設備主要優勢

l 舉例：

NEG涂層的應用

l 分布式高效抽氣：涂層覆蓋整個管道內壁，消除流導限制，尤其適合長距離管道系統（如粒子加速器束流管）。  

l 超潔凈真空環境：無油吸附，減少碳氫污染，真空度可達10^-5 Pa量級。  

l 一勞永逸的維護周期：單次鍍膜后，激活的NEG涂層可持續工作數年（視氣體負載），大幅降低運維成本。  

復合性能強化：Ti-Zr-V三元合金在低溫（200℃）下即可激活，兼具高機械強度與抗粉塵脫落特性

主要應用領域